【201610191161.2】一种低表面粗糙度纳米金刚石膜的制备方法-武清知识产权运营保护服务平台

【201610191161.2】一种低表面粗糙度纳米金刚石膜的制备方法

        转让/许可方名称：天津理工大学
        转让/许可底价（万元）：面议
        挂牌截止时间：2025年1月10日

一种低表面粗糙度纳米金刚石膜的制备方法，步骤如下：将抛光Si片超声清洗以除去杂质和污染物；采用射频磁控溅射法在Si衬底上沉积多晶Ti膜；采用丙酮、二甲基亚砜和纳米金刚石粉的悬浊液对衬底进行超声预处理；在沉积有纳米金刚石粉的Ti/Si基片上采用直流喷射CVD法制备纳米金刚石膜。本发明的优点是：该方法在衬底上制备的Ti过渡层，使金刚石粉分散的更均匀，使纳米金刚石成核更均匀，提高纳米金刚石膜的成核密度，降低纳米金刚石的表面粗糙度；采用悬浊液对衬底进行超声预处理，克服了以往纳米金刚石粉在酒精或丙酮中易沉淀，超声不均匀的现象；该制备方法工艺简单、成本低，有利于大规模的推广，具有重大的生产实践意义。